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共焦点3次元蛍光X線分析装置(真空仕様)(自作)【2018年度登録】辻(工B116)
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共焦点3次元蛍光X線分析装置(大気仕様)(自作)【2018年度登録】辻(工B116)
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共焦点3次元蛍光X線分析装置(大型試料対応)(自作)【2018年度登録】辻(工B106W)(現在休止中/要相談)
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卓上型全反射蛍光X線分析装置(リガク:ナノハンター)【2018年度登録】辻(工B116)(現在休止中/要相談)
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X線光電子分光装置(島津製作所:XPS/ESCA-3400)【2018年度登録】辻(工B106E)
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X線分析顕微鏡(堀場製作所:XGT-5000)【2018年度登録】辻(工B106W)
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【学内限定】単結晶X線回折装置(リガク:Mercury)【2019年度登録】小畠(工B108)(現在休止中/要相談)
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【学内限定】電界放出型走査電子顕微鏡(日本電子:JSM6500F)【2019年度登録】兼子(工B527)
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【学内限定】分光光度計(日本分光:V-660)【2019年度登録】米谷(工B104)
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核磁気共鳴装置・NMR(Bruker Biospin:Avance300 nanobay (AV300N))【2020年度登録】東秀紀(工B109)
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集束イオンビーム(FIB)ナノ加工顕微鏡装置(日本電子:JIB-4000)【2020年度登録】小林(理F106)
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卓上型全反射蛍光X線分析装置(リガク:ナノハンターⅡ)【2020年度登録】辻(工B116)
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【学内限定】X線マイクロCT(島津製作所:inspeXio SMX-90)【2020年度登録】中谷(工C224)
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【学内限定】テラヘルツ分光装置(自作)【2020年度登録】菜嶋(工B529他)
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【学内限定】高速液体クロマトグラフ(島津製作所:LC-20A)【2020年度登録】米谷(工B107)
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【学内限定】フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光:FT/IR-6100)【2020年度登録】白藤(工B412)
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【学内限定】紫外可視分光光度計(島津製作所:UV-1800)【2020年度登録】白藤(工B215)
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【学内限定】分光蛍光光度計(島津製作所:RF-6000)【2020年度登録】白藤(工B412)
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【学内限定】全有機体炭素計(島津製作所:TOC-LCSH)【2020年度登録】白藤(工B412)
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【学内限定】ICP発光分析装置(日立ハイテクサイエンス:VISTA-MPX)【2020年度登録】水谷(工D214)
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【学内限定】接触角計(協和界面科学:DMe-211)【2020年度登録】辻(工B102)
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【学内限定】走査型プローブ顕微鏡(株式会社日立ハイテクサイエンス:SPA400,SPI3800N)【2020年度登録】伊與田(工C104)
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【学内限定】低真空走査電子顕微鏡(+クールステージ)(株式会社日立ハイテク:S-3500N)【2020年度追加登録】伊與田(工C104)
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【学内限定】マイクロ天びん(株式会社エー・アンド・デイ:BM-500)【2020年度追加登録】辻(工B102)
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【学内限定】イオンクロマトグラフ(島津製作所:Prominence HIC-SP )【2020年7月追加登録】白藤(工B412)
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【学内限定】ゼータサイザー(スペクトリス株式会社マルバーン・パナリティカル事業部:Nano ZS )【2020年12月追加登録】長﨑(工F304)
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透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社:JEM-2100【2022年4月追加登録】)米谷(工F209)
共焦点3次元蛍光X線分析装置(真空仕様)(自作)【2018年度登録】辻(工B116)
基本仕様
測定可能元素 | Mg~(ただし試料による) |
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空間分析能 | ~14µm(Au Lα) |
試料形状 | 縦・横:15mm以内 厚さ:5mm以内 |
特徴 | 真空下での測定 |
オプション
- 試料表面近傍の任意の深さにおける元素分析
- 深さを選択した2次元元素分布像の取得が可能
- 深さ方向の情報を有する元素分布像の取得が可能
オプションの詳細
共焦点微小部蛍光X線分析法では、試料の表面近傍において任意の深さで測定を行うことができます。
また、試料を走査させることで3次元的な元素分布像を非破壊的に取得することができます。
本装置では測定雰囲気を真空にすることによって、Mgなどの軽元素の測定も可能です。
【測定例】
毛髪の断面図の元素分布像取得、めっき鋼板など層構造を有する試料に対する深さ方向の元素分布像取得
利用料金
(依頼利用料金)14,200円/利用時間、(本人利用料金)設定なし、(技術指導料金)設定なし共焦点3次元蛍光X線分析装置(大気仕様)(自作)【2018年度登録】辻(工B116)
基本仕様
測定可能元素 | Cl~(ただし試料による) |
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空間分析能 | ~14µm(Au Lα) |
試料形状 | 縦・横:15mm以内 厚さ:5mm以内 |
検出限界 | 約10ppm(ガラス標準物質SRM621にて評価) |
特徴 | 水溶液セルを利用して液中でのその場モニタリング可能 |
オプション
- 試料表面近傍の任意の深さにおける元素分析
- 深さを選択した2次元元素分布像の取得が可能
- 深さ方向の情報を有する元素分布像の取得が可能
- 水溶液セルを用いた水溶液中でのin situ観察が可能
オプションの詳細
水溶液セルを用いることで、液中における元素分布変化のその場観察が可能です。
【測定例】
塩水中での鉄鋼腐食モニタリング
利用料金
(依頼利用料金)12,700円/利用時間、(本人利用料金)設定なし、(技術指導料金)設定なし共焦点3次元蛍光X線分析装置(大型試料対応)(自作)【2018年度登録】辻(工B106W)(現在休止中/要相談)
基本仕様
測定可能元素 | Cl~(ただし試料による) |
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空間分析能 | ~79.8 µm(Cu Kα) |
特徴 | 単色化したX線源を使用 |
オプション
- 試料の任意の深さにおける元素分析が可能
- 単色化したX線源を用いることで、低バックグラウンドの測定が可能
- 深さ方向の情報を有する元素分布像を取得が可能
オプションの詳細
【測定例】
プリント基板の元素分布像取得
利用料金
(依頼利用料金)8,600円/利用時間、(本人利用料金)設定なし、(技術指導料金)設定なし卓上型全反射蛍光X線分析装置(リガク:ナノハンター)【2018年度登録】辻(工B116)(現在休止中/要相談)
基本仕様
測定可能元素 | Al~Uまで(ただし試料による) |
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試料形状 | 10µL程度の水溶液 |
検出限界 | 約10ppb |
特徴 | 微量液体のppb分析や、固体表面の極微量付着物分析 |
オプション
- 【高感度非破壊分析】
マルチビームシステムによりAl~Uを高感度に検出
試料を置くだけで簡単に非破壊分析が可能 - 【ppbレベルの検出限界】
液体試料の場合、きわめて少ない液量でppbレベルの測定が可能
測定準備も容易
オプションの詳細
全反射蛍光X線分析法とは、超高感度な蛍光X線分析を可能にする手法です。
X線を低角度で試料に照射すると、試料内部への侵入はほとんどなくなります。
この時、試料表面の元素は効率よく励起されますが、ノイズとなる散乱線は極めて小さくなります。
励起X線照射核は0~2°の間で変えることができます。
これにより、微量元素の超高感度分析が可能になります。
【測定例1:蒸着膜中不純物の検出】
全反射法では、照射X線は試料表面から数nm程度の深さまでしか侵入しません。
この現象を利用して、極表面のみの高感度分析を行うことが可能です。
【測定例2:固体表面上の付着形態分析】
蛍光X線強度の照射角度依存性を測定することで、試料表面上の元素付着形態を判別することができます。
【測定例3:膜状試料の深さ方向分析】
照射X線の角度を変えることにより、構成元素の深さの濃度変化をみることができます。
利用料金
(依頼利用料金)7,300円/利用時間、(本人利用料金)4,800円/利用時間、(技術指導料金)2,600円/指導時間X線光電子分光装置(島津製作所:XPS/ESCA-3400)【2018年度登録】辻(工B106E)
基本仕様
測定可能元素 | Li~(ただし試料による) |
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試料形状 | 直径:10mm(Φ)以内 厚さ:5mm(t)以内 |
特徴 | 固体最表面数ナノメートルの領域の元素分析と状態分析 |
オプション
- 金属、セラミックス、高分子材料など、さまざまな試料に対応
- 測定操作は極めて簡単
- 高度の自動分析機能とデータ処理
オプションの詳細
軟X線照射によって、固体表面から放出された光電子の結合エネルギーを測定する分析手法です。
光電子の脱出深さが数ナノメートルであることから、固体最表面に近い層からの情報が得られます。
また、酸化の状態や有機物の官能器の種類などに依存して、化学シフトと呼ばれるピークシフトが観測されます。
励起源として軟X線を用いているため、試料に対するダメージが小さいことや、絶縁物の分析も容易です。
【測定例1:材料の品質管理、製造管理のために】
- 金属材料
(酸化膜厚や不働態膜の膜厚管理、表面汚染の測定、表面濃化や偏析の管理、腐食の管理、鋼板などの表面処理の評価) - ガラス・セラミックス
(表面組成の管理、光学材料のコーティングの管理、表面偏析、変質の管理) - 電子、半導体材料
(半導体ウェハの有機汚染管理、薄膜や多層膜の膜厚管理、ハードディスクの潤滑膜厚の測定、磁気テープの潤滑膜厚の測定、表面処理の管理) - 高分子材料
(高分子フィルムの表面改善の管理、高分子の接着性の評価、食品包装フィルムの汚染評価、繊維の撥水加工処理の評価、繊維のコーティングの管理) - 触媒
(触媒の活性度評価)
【測定例2:材用、部品、製品の不良解析や研究のために】
- 触媒の失活
(Pbなどの金属の酸化度の測定、表面の有機物汚染の測定) - すべり性の低下
(潤滑膜厚の測定、コーティングのはがれの評価、機械部品の潤滑層の酸化の評価) - 材料表面の変色
(汚染不純物元素の測定、汚染物質の状態分析、表面酸化や汚染などの原因究明、腐食の進行度と状態の評価) - 高分子フィルムの接着性の低下
(官能基の測定、表面酸素濃度の測定)
利用料金
(依頼利用料金)8,200円/利用時間、(本人利用料金)5,700円/利用時間、(技術指導料金)2,600円/指導時間X線分析顕微鏡(堀場製作所:XGT-5000)【2018年度登録】辻(工B106W)
基本仕様
測定可能元素 | Na~U(ただし試料による) |
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空間分析能 | 最小φ10µm |
試料形状 | 高さ:30mm以内 |
特徴 | 蛍光X線による元素分析能力、透過X線像、顕微鏡の観察能力の3つの機能をもつX線分析顕微鏡 |
オプション
- 前処理不要
- 大気中非破壊測定
オプションの詳細
生体組織や鉱物の分析、半導体や電子部品関連の各種解析、品質管理など、幅広い分野での活用が可能です。
特別な前処理なしに、試料の構成元素と内部構造の解析を同時に行うことができます。
10µm の空間分解能をもつ高輝度マイクロビームを実現した独自のX線導管(XGT)を採用し、微小な試料でもマッピングが得られるなど、高精度な測定を可能にしています。
主な特長は、元素マッピング像と透過X線像が同時に得られることや試料を選ばないことです。
しかも大気中で非破壊測定が可能なので、貴重な試料や水分を含む試料などにも対応できます。
- 元素マッピング像と、透過X線像が同時に得られます。
- 試料の前処理なしに、大気中で非破壊・非汚染の測定が可能。
- 試料を選ばず、生体などでも分析可能。
- Na(ナトリウム)からU(ウラン)まで31元素を同時マッピング。
- 100mm×100mm のサンプルをそのまま分析可能。
- φ 10µm / φ 100µm の点分析、微小領域から広領域までの面分析に対応。
【測定例1:研究開発】
材料開発、バイオ試料解析
(植物、小動物などの生体組織、鉱物)
【測定例2:品質管理 】
異物分析、不良解析
(半導体パッケージ、電子部品)
利用料金
(依頼利用料金)6,000円/利用時間、(本人利用料金)3,500円/利用時間、(技術指導料金)2,600円/指導時間【学内限定】単結晶X線回折装置(リガク:Mercury)【2019年度登録】小畠(工B108)(現在休止中/要相談)
基本仕様
検出器 | CCD検出器 (Mercury CCD) |
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カメラ長可変範囲 | 35 mm~75 mm |
ダイナミックレンジ | 216 |
4軸ゴニオメータ | (AFC-7R) |
コリメータ | φ0.3 mm, 0.5mm, 1.0 mm |
ターゲット | Mo (波長0.71070Å) |
X線発生装置 | 回転対陰極型 |
X線管電圧・管電流可変範囲 | 20~60 kV, 10 mA~300 mA |
窒素吹付型低温装置 温度可変範囲 | -180℃~室温 |
特徴 | シンチレーション検出器を用いた4軸型装置から検出器部分をCCD検出器に交換した装置。測定対象は、低分子化合物(有機物)の単結晶。 |
オプション
- X線回折を利用して物質の結晶構造を調べることができます。
- 結晶中に含まれる物質の構造や結晶中の配列を調べることができます。
オプションの詳細
CCD検出器を用いることにより視覚的に結晶の質を把握することができます。
【学内限定】電界放出型走査電子顕微鏡(日本電子:JSM6500F)【2019年度登録】兼子(工B527)
基本仕様
最大倍率 | 10万倍(ただし試料による) |
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試料形状 | 直径:30mm以内 高さ:10mm以内 |
特徴 | 材料の表面形状を高倍率で観察することができる.電界放出型電子銃なので,プローブ電流が高い. |
オプション
・通常の二次電子像に加えて,反射電子(後方散乱電子)像の撮影が可能
・Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy(EDS)による化学分析
・Electron Backscatter Diffraction(EBSD)法による結晶方位解析
オプションの詳細
高いプローブ電流の条件で反射電子像を取得することで,原子番号コントラストや結晶方位(電子チャンネリング)コントラストを得ることができる.
SEM/EDS法は分解能が高く,1μm程度の領域でも元素分析ができる.
表面を平滑に研磨した結晶性材料に対しては,EBSD法で広い範囲で結晶方位を得ることができる.付属のソフトで極点図や粒界マップなどの描画が可能.
導電性が無い試料については,金やオスミウムなどによるコーティングが必要.ただし,低加速電圧で低倍率での観察ならば,コーティングなしでも観察可能な場合あり.
水分を含んだり,真空中でガスを放出する材料については観察不可.
【測定例1:材料の開発のため】
表面の観察,粒子の形態観察,反射電子像による重原子相の同定,EBSD法による集合組織の分析,EDSによる元素マッピング,EDSによる定量分析,EBSDとEDSの組合わせによる相同定.
【測定例2:材料の損傷解析のため】
破面形態観察,すべり帯・せん断帯の観察,腐食の分析,結晶格子回転の解析,相変態の解析,自己組織化した転位構造の観察.
【学内限定】分光光度計(日本分光:V-660)【2019年度登録】米谷(工B104)
基本仕様
光学系 | ダブルモノクロメータ |
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測定波長範囲 | 187~900 nm |
試料形状 | 液体試料(石英セルに封入)、固体試料 |
特徴 | 汎用的な紫外可視光領域の分光測定 |
オプション
・本装置は高感度タイプであり、紫外可視光領域で6 Abs.までの測光が可能
オプションの詳細
ダブルモノクロメータを採用しているため、迷光が極めて低く、極低濃度の試料溶液でも高感度で測定が可能です。
広い波長範囲で6 Abs.までの測定を実現しており、吸光度の大きい試料でも測定可能です。
【測定例】
溶液試料の吸光度測定、結晶等のバンドギャップ測定、カイネティクスプログラムを用いた反応速度の解析、光学フィルター等の性能評価、反射率測定による多層膜の解析
核磁気共鳴装置・NMR(Bruker Biospin:Avance300 nanobay (AV300N))【2020年度登録】東秀紀(工B109)
基本仕様
超伝導マグネット |
磁場強度:7.14 T(1H核共鳴周波数: 300 MHz) |
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試料形状 | 液体 |
測定温度 | -150~180℃ |
ソフトウェア | TopSpin3.2 |
特徴 |
測定内容:1次元測定,2次元測定,多核測定、緩和時間測定等 コンパクトデザインおよび磁場遮蔽型マグネットのため通常の実験室に設置 高感度NMR装置の中では、低磁場装置であるためルーチン測定用 |
オプション
- 5 mm径 多核種プローブ
- オートマッチング&オートチューニング
- 軽溶媒測定
- 温度可変用スピナー
オプションの詳細
幅広い核種の測定が可能
自動によるマッチング&チューニングが可能なことで幅広いユーザーが利用可能
軽溶媒測定は、重溶媒が用意できない特殊な溶媒の場合等に有効
10~60℃の範囲を越える場合は温度可変用スピナーを用いて測定
利用料金
(依頼利用料金)2,000円/利用時間、(本人利用料金)850円/利用時間、(技術指導料金)3,645円/指導時間集束イオンビーム(FIB)ナノ加工顕微鏡装置(日本電子:JIB-4000)【2020年度登録】小林(理F106)
基本仕様
FIB
イオン源 |
Ga液体金属イオン源 |
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保証分解能 | 5nm(加速電圧:30kV) |
最大ビーム電流 | 60nA(加速電圧:30kV) |
特徴加速電圧 | 1~30kV |
試料移動方式 | 5軸モータステージ(標準) |
オプション
- 早く、綺麗な加工
大電流イオンビームにより目的の試料をより早く、綺麗に加工することが可能 - 加工ダメージの低減
低加速電圧の加工により加工ダメージの低減が可能 - 安全性
ソフトウェアでの各種操作はオペレ-タ別にログイン/ログアウトで管理が可能
省エネモ-ドにより、加工終了後のGaイオン源の消費低減を実現 - 多彩なGIS
最大2基のGISを装備可能。目的に応じたガスの使用が可能 - 省スペース
省スペース設計の鏡筒架台と操作架台で構成
利用料金
(依頼利用料金)設定なし、(本人利用料金)31,000円/利用時間、(技術指導料金)3,000円/指導時間卓上型全反射蛍光X線分析装置(リガク:ナノハンターⅡ)【2020年度登録】辻(工B116)
基本仕様
測定可能元素 | Al~Uまで(ただし試料による) |
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試料形状 | 10µL程度の水溶液 |
検出限界 | 約10ppb |
特徴 | 微量液体のppb分析や、固体表面の極微量付着物分析 |
オプション
・液体中および固体表面の極微量元素をppbレベルで高感度分析
オプションの詳細
全反射蛍光X線分析法を採用し、液体中や固体表面の極微量元素をppbレベルで高感度分析できる卓上型全反射蛍光X線分析装置の次世代機です。全反射蛍光X線分析法は、試料に対してすれすれにX線を入射する手法で、試料に含まれる極微量元素の低バックグラウンド・高感度測定を可能にしています。
環境規制が厳格化する中、たとえば工場廃液などに含まれるAs(ヒ素)、Se(セレン)およびCd(カドミウム)などについて、ppbレベルの分析をより簡単な方法で行いたいというニーズは高まりを見せています。本装置を使用すれば、液体の水滴を試料板に垂らし、乾燥させてから測定するという簡便な方法で、ごく少量の試料でも、ppbレベルの分析が可能です。また、内標準物質を使った定量分析も容易に実行することができます。
本装置は、全自動光軸調整システムによる安定した高感度分析と、卓上型で扱いやすく、手軽に操作できる機動性を兼ね備えた装置です。600Wの高出力X線源と新開発のミラー、大面積のSDD検出器により、高強度・高感度測定を可能にしています。Cdの検出下限は2ppb。液中のAsやSeの場合、0.8ppb以下の検出限界を実現しています。
Kα線を高効率に励起できることも大きな特長です。これまで原子番号48のCdは、Kα線を励起することが困難で、測定の難しいL線による分析に頼ってきました。しかし、本装置で使用する新開発のミラーは約30keVの高エネルギー励起源を利用できるため、高S/Nでクリアなピークを得られるKα線を使ったCd測定が可能です。工場廃液のスクリーニング分析や、ワインに代表される飲料分析といった分野で、広く活用されることが期待できます。
固体表面の分析においては、主に薄膜・フィルム分野において、表面より少し深い部分の分析も行いたいというニーズもあります。こうした分析の場合、X線の入射角を変えることで、奥にある元素を励起させて分析する斜入射蛍光X線分析法を使用します。本装置は、入射角度変更機能を備えているため、情報深さを変えて表面分析を行うことを可能にしています。この仕組みは、ナノパーティクルサイズの研究などに活用することができます。
その他の特長
- 広範囲な元素を検出
検出可能な元素範囲は、原子番号13のAl(アルミニウム)から、原子番号92のU(ウラン)までです。 - 極微量な試料を測定
液体試料の場合、必要な試料量は10µL~50µLで良く、一般の化学分析法に比べて数10分の1で済みます。微量な遺留物を非破壊分析したい法科学分野からのニーズにも十分にこたえることができます。 - 連続測定が可能
16試料交換機を搭載し、自動運転・夜間運転が可能です。 - 場所を選ばず設置
AC100V電源のみで稼働し、分析ガスは不要。X線管理責任者の届け出も不要です。
旧NANOHUNTERからの主な強化ポイント
- 高出力X線源を採用
600WのX線源を搭載。従来の50Wに比べて大幅な出力強化を果たしました。 - Mo励起で100倍の感度向上
Cu励起(8keV)で10倍、Mo励起(18keV)なら100倍の感度向上を実現しました。CuとMoの間にある原子番号30~41の原子を高効率に励起できるほか、新開発の多層膜ミラーにより、原子番号44~49のKα線を励起できるようになりました。
利用料金
(依頼利用料金)12,700円/利用時間(未確定)、(本人利用料金)設定なし、(技術指導料金)設定なし【学内限定】X線マイクロCT(島津製作所:inspeXio SMX-90)【2020年度登録】中谷(工C224)
基本仕様
inspeXio SMX-90CT Plusは“EASY”、“SPEEDY”、“COMPACT”をコンセプトに誰でも簡単に断面画像撮影が可能な卓上型X線CTシステムです。キャリブレーションフリーを主とする操作性や卓上型のコンパクトさに加え、超高速演算処理システムHPC inspeXioやDICOM変換機能などを搭載しました。より簡単に(EASY)、より速く(SPEEDY)、これまでどおり小さな(COMPACT)筐体で、生体・医薬品・骨・樹脂成形品・小型電子部品等のCT撮影・解析を実現します。
型 名 | inspeXio SMX-90CT Plus |
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P / N | S362-85000-91 |
X線発生装置 | 密封型 定格:10 W、最大管電圧 90 kV、最大管電流 250 μA |
X線検出器 | フラットパネル検出器 |
CTステージ最大ストローク | SRD軸 190 mm ̶ Z軸 50 mm |
搭載可能ワークサイズ | ø160×H100 mm、最大4 kg |
最大CT撮影領域(FOV) | ø50 mm |
走査方式 | オフセット走査、CBCT |
CTデータ収集時間 | 40秒~30分まで任意設定可能 |
断面画像サイズ | 512×512 1,024×1,024 |
装置寸法・質量 | W830×D601×H587 mm、250 kg |
専用デスク寸法・質量 | W1,500×D750×H740 mm、約80 kg |
所要電源 |
AC100 V±10% 50/60 Hz 1 kVA |
外部漏えいX線量 | 1 μSv/h以下 |
オプション
EASY
置いてすぐ撮影スタートできます。わずらわしいキャリブレーションが不要です。ワークをセットし、CTスタートをクリックするだけでCT撮影ができます。
SPEEDY
演算時間を気にせず撮影できます。超高速演算処理システムHPC inspeXioを搭載し、画像再構成演算時間がほとんどありません。撮影終了後すぐにMPR表示可能です。
COMPACT
小さくても様々なワークが撮影できます。卓上型の省スペースX線CTシステムでありながら、ø160 mm×H100 mmのワークが搭載可能でø50 mm視野まで撮影できます。
【学内限定】テラヘルツ分光装置(自作)【2020年度登録】菜嶋(工B529他)
基本仕様
光学系* | 透過測定光学配置 |
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測定範囲** | 周波数:0.1~3 THz,波数:3.3~100 cm-1,波長:0.1~3 mm,エネルギー:0.48~14.4 meVa |
スペクトル分解能*** | 10 GHz |
測定条件 | 常温,大気圧,測定光束断面:1~10 mm (1 THz),直線偏光 |
試料形状 |
固体試料(標準) 粉体,液体,気体試料(別途相談) |
特徴 | テラヘルツ時間領域分光法を採用.光学定数(誘電率,屈折率など)の複素成分を導出可能. |
オプション
- 反射型,全反射分光への切替えも可能(要相談)
- 本装置は汎用タイプであるが,放射素子・レーザーの交換により7 THzまでの連続スペクトルの測定が可能.
- 時間遅延の掃引条件の切替により,周波数分解能を1 GHz (0.033 cm-1)に変更することが可能.
オプションの詳細
ダイナミクレンジは1 THz付近で120 dB以上あり1 THzから離れると小さくなる.
測定結果(時間波形,FFTスペクトル,透過率スペクトル,位相差スペクトル,複素光学定数)をテキスト形式で保存可能.
【測定例】
半導体ウエハ,強誘電体結晶(セラミック),非線形光学結晶,光学異方性のある固体材料,ポリマー系樹脂,透明導電膜などの固体材料の透過測定.織金網等の金属周期構造体やチロシンなどの粉体試料およびポリマー系発泡樹脂の透過測定.有機溶媒単体や混合溶液,水蒸気,アルコール系の気体の透過測定.
【学内限定】高速液体クロマトグラフ(島津製作所:LC-20A)【2020年度登録】米谷(工B107)
基本仕様
最大吐出圧力 | 40 MPa |
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検出方式 | 吸光度検出器(190~900 nm) |
カラム温度 | 4~85℃ |
特徴 | 汎用的な高速液体クロマトグラフ |
オプション
・カラムを交換することで様々な化合物の分離と検出が可能です。
・オートサンプラを装備しており多数の試料を一度に自動分析することが可能です。
オプションの詳細
光源にD2ランプとWランプを使用しており幅広い波長域(190~900 nm)で吸光度の検出を行えます。
オートサンプラの試料処理数は以下の通りです。175個(1mL バイアル)、105個(1.5mL バイアル)、50個(4mL バイアル)。
【測定例】
環境汚染物質の分析、食品成分分析、有機合成物質の分離・分析など、幅広い用途に使用していただけます。
【学内限定】フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光:FT/IR-6100)【2020年度登録】白藤(工B412)
基本仕様
赤外分析のソリューション
日本分光の最新技術を導入し、高感度化はもとより、安定性、操作性においても最高レベルを追求したFTIRです。
干渉計のコントロールには、DPS制御を採用しています。He-Neレーザの干渉波を常時モニターして、DPSを介してフィードバックをかけることにより、高精度な移動鏡の制御を可能にしています。A/Dコンバータには24ビットタイプを採用し、高ビット化によるSN比向上を図っています。付属品認識機構IQアクセサリーは付属品情報を読み込み、測定条件が設定されます。本体とPCの接続にはUSB2.0を用い、高速通信が可能になっています。光学系は、筺体の後部に干渉計部を配置することによりサイズダウンを図っていますが、試料室は大型の付属品にも対応できるサイズを確保しています。光学ベースは堅牢なリブ構造により、温度変化や長期的な構造の歪みを抑制します。光学ベースを支える脚部は免振構造になっており、外部からの振動を抑え、安定した測定を可能にしています。
測定波数範囲 | 7800~350㎝-1 |
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測定波数拡張範囲 | 25000~10㎝-1 |
最高分解 | 0.5㎝-1 |
分解設定範囲オプション | 0.5, 1.0, 2.0, 4.0, 8.0, 16.0 ㎝-1 |
SN比 | 42000:1 |
検出器 | DLATGS(温調付き |
ビームスプリッタ | Ge/KBr |
光源 | 高精度セラミック光源 |
干渉計 | 28°入射マイケルソン干渉計 |
パージ | 干渉計、試料室、検出器部対応 |
A/Dコンバータ | 24bit A/Dコンバータ |
駆動方式 | 電磁駆動、メカニカルベアリング |
駆動速度 | 0.1, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8mm/sec |
オプション
データ検索 化合物の同定方法として赤外分析は非常に優れた手法ですが、解析には豊富な経験が必要とされます。日本分光では、標準でサドラースペクトル検索(1万データライブラリー付)と部分構造解析支援プログラムを搭載し、複合成分検索も行えます。
測定開始ボタン装備 測定開始ボタンを装備し、本体からの操作で測定を開始することができます。多検体を測定するような場合、ソフトから測定開始の操作をする必要がなく、迅速な処理が可能になります。簡易測定プログラムとの組み合わせにより、より簡便な測定が可能となります。
コーナーキューブミラー 精度と安定性が要求される干渉計に逆行反射素子であるコーナーキューブミラーを使用することにより、外乱等による影響をリアルタイムでキャンセルすることにより近赤外領域でのスループットが向上しています。
IQアクセサリー(付属品認識機構) IQアクセサリーにより、対応付属品が試料室にセットされると測定プログラムが認識し、その付属品用の測定条件が自動的に設定されます。さらにデータ情報として使用した付属品名が記録されます。また、日本分光純正品以外の付属品も登録することにより、認識させることができます。
オプションの詳細
分析室部分の窒素パージが可能です.
干渉計部分の真空排気が可能です.
ステップスキャン機能のご利用の際にはご相談ください.
簡易的ではありますが,KBr錠剤を作るためのキットがございま
【学内限定】紫外可視分光光度計(島津製作所:UV-1800)【2020年度登録】白藤(工B215)
基本仕様
USBメモリにデータを保存しますので,USBメモリをご持参く
入射角5°の反射ユニットもあります.
高分解 クラス最高レベルの分解1nm *2007年8月現在
省スペース 小さな設置面積:W450×D490mm
操作性向上 USB端子を標準装備
流線的なフォルムに包まれたコンパクトなダブルビーム紫外可視分光光度計です。
分光器に本格的マウンティングであるツェルニー・ターナーマウントを採用し、クラス最高レベル*の分解、明るい光学系、コンパクト化を実現しました。
スタンドアローン機としても、PC制御機としても使用可能です。
さらに、本体はUSB対応となっていますので、汎用性の高いUSBメモリに測定データを保存してパーソナルコンピュータでのデータ解析や印刷も可能となります。
測定波長範囲 | 190~1100nm |
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スペクトルバンド幅 | 1nm (190~1100nm) |
波長表示 | 0.1nm単位 |
波長設定 | 0.1nm単位(波長走査領域設定時は1nm単位) |
波長正確さ | ±0.1nm 656.1nm D2, ±0.3nm 全域 |
波長繰り返し精度 | ±0.1nm |
波長送り速度 | 波長移動:約6000nm/min 波長走査:3000~2nm/min |
光源切り替え波長 | 波長と連動した自動切替え。切替え波長は295~ 364nmの範囲で任意設定可能(0.1nm単位) |
迷光 | 0.02%以下(220nm, NaI) 0.02%以下(340nm, NaNO2) 1.0%以下(198nm, KCl) |
測光方式 | ダブルビーム測光方式 |
測光レンジ | 吸光度: -4~4Abs、透過率: 0~400% |
測光正確さ | ±0.002Abs(0.5Abs) ±0.004Abs(1.0Abs) ±0.006Abs(2.0Abs) NIST930D, NIST1930に準じたフィルターにて検定 |
測光繰り返し精度 | ±0.001Abs以下(0.5Abs) ±0.001Abs以下(1Abs) ±0.003Abs以下(2Abs) |
ベースライン安定性 | 0.0003Abs/H以下(700nm) 光源点灯1時間後 |
ベースライン平坦度 | ±0.0006Abs以内(1100~190nm) 光源点灯1時間後 |
ノイズレベル | 0.00005Abs以下(700nm) |
光源 | 20Wハロゲンランプ, 重水素ランプ 光源位置自動調整機構内臓 |
分光器 | ツェルニーターナーマウント ブレーズドホログラフィックグレーディング使用 |
検出器 | シリコンフォトダイオード |
試料室 | 室内寸法(内寸):幅110×奥行250×深さ115mm 光束間距離:100mm |
出力装置 | USBメモリ(オプション) 保存データファイルはテキスト形式とUVPC形式 UVPC形式はUVProbeで直接呼出し可能 |
オプション
クラス最高レベルの分解 1nm
クラス最高レベルの分解1nmを達成すると共に、ツェルニー・ターナーマウントの分光器の採用によりコンパクトで明るい光学系を実現しました。
分解1nmですので、ヨーロッパの薬局方で求められている波長分解性能を余裕をもってクリアできます。
また、波長正確さ、測光精度など日本薬局方が求める仕様に準拠し、標準装備のバリデーション機能とバンド幅1nmで校正された波長校正用光学フィルターを使用して日本薬局方に基づいたハードウェアバリデーションが可能です。
省スペース設計
装置の幅は、このクラス最小レベルの450mmです。わずかなスペースでも、設置できます。
USBメモリを使用することでデータの操作性が広がります。
USBメモリを使い、解析データの持ち運びや、PCでの大量保存が簡単になりました。
・USBメモリをUV-1800に直接接続することができます。
スペクトルや時間変化曲線のデータを市販の表計算ソフトウェアで表示や保存ができます。
【学内限定】分光蛍光光度計(島津製作所:RF-6000)【2020年度登録】白藤(工B412)
基本仕様
キュベットは,ご自身のものをご利用ください.
オプション
多様なアプリケーションをサポート
■ 感度の向上、およびダイナミックレンジの拡張により、蛍光測定だけでなく、バイオルミネッセンス、ケミルミネッセンス、エレクトロルミネッセンス測定をサポートします。
■ 3次元測定機能を標準装備。超高速スキャンとの組み合わせでマッピング測定時間を大幅に短縮しました。
■ スペクトル補正機能を標準装備。装置特性の影響がないスペクトルを得るための自動スペクトル補正機能を標準装備しました。
■ 蛍光量子収率/蛍光量子効率測定機能を標準装備。専用プログラムによる直感的な操作で、測定から計算までを行うことができます。
高感度測定・高速測定・安定した測定
■ クラス最高レベルのSN比1,000以上(RMS)、350以上(P‒P)を実現しました。
■ 超高速スキャン(60,000nm/min)を実現しました。
■ 標準で900nmまでの蛍光測定ができます。
■ 2,000時間の長寿命キセノンランプを搭載しています。
至高の使いやすさ
■ 簡単操作を追求したソフトウェア「LabSolutions RF」で測定・分析が簡単です。
■ バリデーション機能を標準搭載。装置状態をいつでも簡単に診断できます。
■ ランプ点灯時間、付属品の接続状況が簡単に確認できます。
■ 拡張性の高い大型試料室を採用しました。
【学内限定】全有機体炭素計(島津製作所:TOC-LCSH)【2020年度登録】白藤(工B412)
基本仕様
オートサンプラータイプではありませんのでご留意ください.
測定方式 | 680℃燃焼触媒酸化-非分散型赤外線検出(NDIR)法 |
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測定項目 | TC、IC、TOC(=TC-IC)、NPOC(酸性化・通気処理によるTOC 測定) ※オプション:POC、TOC(=NPOC+POC)、TN |
測定対象 | 水試料(オプション:固体試料、ガス試料) |
測定範囲 | TC : 0 ~ 30,000 mg/L IC : 0 ~ 3,000 mg/L (オプション) TN : 0 ~ 10,000 mg/L POC : 0 ~ 500 mg/L |
検出限界 | TC:50μg/L、IC:4 μg/L、TN:20 μg/L |
繰り返し性 |
TC,NPOC :CV1.5% 以内または±50 ug/L 以内 IC :CV1.5% 以内または±4 ug/L 以内 ( オプション TN:CV3.0% 以内または±20 ug/L 以内) |
測定時間 | TC:約3 分、IC:約4 分(オプション TN:約4 分) |
試料注入方式 | シリンジポンプ・スライド式注入機構による自動試料注入 |
試料注入量 | TC:10 ~ 150 μL 可変、IC:10 ~ 4,500 μL 可変 |
IC除去 | 自動酸添加・通気処理 |
試料希釈 | 希釈倍率2 ~ 50 倍(シリンジポンプで自動試料希釈)、希釈精度:±2% 以内(2 ~ 20 倍)、±5% 以内(21 ~ 50 倍) |
キャリアガス | 高純度空気(CO、CO2、HC の含有率:各1 ppm 以下、露点: -50℃以下) 供給圧力:200±10 kPa( オプションのキャリアガス調圧弁付加時は300~600 kPa) オプションで窒素ガスも使用可能(ただしTN 測定時は不可) 標準型にはオプションで加圧空気も使用可能 |
オプション
TFT カラー液晶画面で視認性抜群のスタンドアロンモデル TOC- L CSH
■カラー画面とキーボード
簡単で分かりやすい操作を考慮して設計されたキーボードと、見やすいTFTカラー液晶画面を採用しています。
■ PC用プリンタの使用
本体背面のUSB 端子に汎用のPC 用プリンタや小型サーマルプリンタを接続して使用することが可能です。
(使用できるプリンタの機種については、お問い合わせください。)
■ USBメモリへのデータ出力
測定結果等をUSBメモリにCSV形式で出力することができます。
■ LAN ポートからのデータ出力(オプション)
本体背面にLAN 端子を備え、測定データをLAN 経由で出力することが可能です。
オプションの詳細
TOC計の最重要ポイントは低分子の易分解性有機物だけではなく、不溶解性や高分子状を含めた難分解性有機物も高効率で酸化できることにあります。島津が開発し世界に広め80℃燃焼触媒酸化で全ての有機成分を高効率で測定します。
■ 4 μg/L ~ 30,000 mg/L の超ワイドレンジで超純水から高汚濁水まで適用(TOC-LCSH/CPH)
・ TC、IC、TOC(=TC-IC)、NPOC 測定のほか、オプション付加によりPOC(揮発性有機体炭素)やPOC+NPOC によるTOC、さらにTN(全窒素)の測定が可能
・ 自動的に装置内で製造した超純水を測定することでシステムブランクを評価するブランクチェック機能を装備
・ 自動希釈機能により30,000 mg/Lまで測定可能
■ 信頼性のある試料注入システム
・ 試料酸性化・通気を自動処理
・ 自動希釈機能で試料の塩分・酸・アルカリ濃度を下げることにより、触媒や燃焼管の保守期間を大幅に延長(試料や測定条件により、効果は異なります。)
・ オートサンプラ使用時にもTOC計単独測定用試料採取チューブを装備することで、飛び込み試料に柔軟に対応
■ 用途に合わせて選べる4モデル
・ LCD・キーボード搭載のスタンドアロンモデルとパソコン制御のPC 制御モデル
・ 検出限界4 μg/Lで純水測定を含む多様な用途に適用できる高感度モデルと、コストパフォーマンスを重視した標準モデル
■ 水試料だけでなくガス試料から固体試料まで適用可能(マニュアル注入キットや固体試料燃焼装置付加時)
■ キャリアガスに加圧空気の使用が可能(キャリアガス精製キット付加時)
■ 少量サンプルに対応(少試料対応キット付加時)
■ 海水試料を少ないメンテナンスで連続測定可能(高塩試料用燃焼管付加時)
■ 沈降性の高い懸濁性有機物を含む試料でも良好な繰返し性で測定が可能(高懸濁キット付加時)
※試料や測定条件により効果は異なります
【学内限定】ICP発光分析装置(日立ハイテクサイエンス:VISTA-MPX)【2020年度登録】水谷(工D214)
基本仕様
観測 | アキシャルもしくはラジアル |
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分光器 方式 | エシェルクロス分散ポリクロメータ |
分光器 波長範囲 | 175~785nm |
分光器 検出器 | MPX検出器(メガピクセルCCD) |
高周波電源 方式 | フリーランニング |
高周波電源 周波数 | 40MHz |
オプション
・高速に定性・定量ができます。
・波長走査をしないため、繰り返し再現性が優れています。
・BG補正や同時内部標準補正の精度が優れています。
・分光器に波長駆動機構がないため長期的に安定しています。
・同一元素を複数の波長で同時測定することにより広いダイナミックレンジが得られます。
・測定されたスペクトルは全てメモリーに保存されますので分析後にバックグラウンド補正の有無や位置を自由に変更し、再計算ができます。
【学内限定】接触角計(協和界面科学:DMe-211)【2020年度登録】辻(工B102)
基本仕様
液体を固体表面に滴下すると、液滴(水滴)となります。この液滴と固体表面とのなす角度を「接触角」といいます。「接触角」は「ぬれ」を表す指標としては非常に直感的でわかりやすく、あらゆる産業分野において、表面評価手法として採用されています。
「ぬれ」という現象は日常生活や製造現場でも見かける身近な現象ですが、最近では「ぬれ」を制御することで、様々な分野で新しい付加価値が想像されてきています。
たとえば、「曇らない鏡」「水をはじく衣類」「すばやく効く薬」「汚れないフライパン」など、私たちの快適な生活は「ぬれ」の制御技術によって支えられているといっても過言ではありません。
「ぬれ」を制御するには、正確な評価が必要であり、そのために接触角計は幅広い分野で使用されています。
表面分析の分野で“3種の神器”に例えられる、オージェ電子分光分析(AES)、X線光電子分光分析(XPS)、二次イオン質量分析(SIMS)に、接触角測定を加えることで表面状態の特性をより多面的にとらえることができます。
計測システム | CMOSカメラ |
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測定方法 接触角 | 液滴法 |
測定方法 表面張力 | 懸滴法 |
解析方法 接触角 | θ/2法、接線法 |
解析方法 表面張力 | ds/de法 |
測定視野 | 固定 |
最大試料寸法 | 100×100×10(㎜) |
最大試料重量 | 300g |
ステージ可動範囲 | 上下」:10.5㎜ |
動作環境 | 温度:10~35℃、湿度:30~80%RH(ただし結露のないこと) |
測定範囲 接触角 | 0~180° |
測定範囲 表面張力 | 0~100mN/m |
測定表示桁 | 0.1または0.01() |
表示分解能 接触角 | 0.1° |
表示分解能 表面張力 | 0.1mN/m |
オプション
- 測定者の判断で最も個人誤差を受けやすい液滴画像の取り込みタイミングを任意に設定することで、測定値のバラつきを最小限に抑えます。
- ぬれ性の影響因子の一つである表面張力の測定ソフトウェアも標準装備しています。
オプションの詳細
接触角測定の画像処理機能において、画像取込タイミングにおける自動液滴認識を可能にした接触角計です。
この機能により、測定者の判断で最も個人誤差を受けやすい液滴画像の取込みタイミングを任意に設定することで、測定値のばらつきを最小限に抑えます。
常温下における静的接触角測定を精度良く測定することを的に絞り、機能を限定することで低価格化を実現しました。
ぬれ性の影響因子の一つである表面張力の測定ソフトウェアも標準装備しています。
【学内限定】走査型プローブ顕微鏡(株式会社日立ハイテクサイエンス:SPA400,SPI3800N)【2020年度登録】伊與田(工C104)
基本仕様
小型で汎用性に優れた多機能ユニットです。簡便に大気中で高分解能観察を行うことができます。また、カンチレバーホルダを交換することで様々な物性測定が行えます。
型 名 | SPA400.SPI3800N |
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測定方式 | 光てこ方式 |
分解能 | 電子分解能 |
最大試料サイズ | 直径35㎜Φ、厚み10㎜ |
走査範囲 | 20㎛ |
特徴 | 原子間力顕微鏡(AFM)・磁気力顕微鏡(MFM) |
オプション
・簡単操作で高分解を実現
・測定したい場所に高精度で位置決め
・光学系はそのままで試料交換可能
オプションの詳細
手軽な試料・スキャナ交換
試料交換 試料導入部を広く設計。光学系を動かすことなく試料の交換を容易に行えます。
スキャナ交換 光ヘッドをスライドさせることで、スキャナ交換をスムーズに行えます。
高精度の位置決め機能
目的の場所に正確にカンチレバーをアプローチさせることは、測定効率UPや深針損傷回避の上でも重要です。SPA-400では、直上からの金属顕微鏡観察により1㎛オーダーで位置決めを実現します。
また、微分干渉フィルタと組み合わせることで、透明膜や生体試料への位置決めに威力を発揮します。
簡単な光軸調整
レーザー位置モニタを標準装備しました。画面上でレーザー光の位置を確認できるので、初めての方でも光軸調整が簡単に行えます。
安定した高分解能性能
小型化により剛性をより高くし、常に安定した性能を提供します。また、大気中・液中で容易に高分解能観察できます。
簡単なモード切り替え
カンチレバーホルダを交換することにより、様々な測定モードに対応。ソフトウェアの測定モードもメニュー操作だけで瞬時に切り換えることができます(対応していない測定モードもあります)。
【学内限定】低真空走査電子顕微鏡(+クールステージ)(株式会社日立ハイテク:S-3500N)【2020年度追加登録】伊與田(工C104)
基本仕様
低真空モードで業界最高分解能4.5ナノメーターを実現した走査電子顕微鏡を製品化
型 名 | S-3500N |
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反射電子分解能(低真空モード) | 4.5㎚ |
2次電子分解 | 3.0㎚ |
倍率 | 15倍 ~ 30万倍 |
最大試料サイズ | Φ150㎜ |
特徴 | 食品、生物試料などの含水試料でも前処理なしでより鮮明な観察像を提供 |
オプションの詳細
含水試料でも前処理なしで観察・分析できる走査電子顕微鏡「S-3500N」の低真空モードの分解能を、業界最高の4.5ナノメーター(nm)に向上。 「S-3500N」は、食品や生物試料などの水を含んだ試料(含水試料)を形状、組成などを変えずに生のままで像観察をしたいというニーズに応え製品化。シンチレータ(注1)と呼ばれる部分を改良した新しい検出器の採用により、低真空モードによる分解能を当社従来製品の5.0nmから4.5nmに向上し、主に食品や人体、動物などの微細構造など研究・実験のための観察向けに、より高倍率で鮮明な含水試料の観察像を提供できる。
近年、走査電子顕微鏡(以下SEM(Scanning Electron Microscope))は、半導体、バイオ、材料、食品、繊維など多種多様な分野で、製造業における品質管理、研究機関における研究開発など幅広く活用されている。半導体の線幅などの計測に特化した測長SEM、バイオ、材料を中心に主に研究開発向けに用いられているFE-SEM(注2)、幅広い分野で用いられる汎用SEMを販売しており、測長SEM、FE-SEMについては世界のトップシェア。
SEMは、細い電子ビームを試料に当てて、試料から出てくる電子を検出して像を描く。電子ビームが試料に当たったとき、試料からとび出してくる弱いエネルギーしかもたない電子(2次電子)を検出するためには、試料室内を10-4パスカル(Pa)(注3)レベルの高真空の状態に維持する必要があった。しかし、高真空では含水試料は急激な乾燥により変形するため、食品や生物では煩わしい前処理が必要であった。
また試料からは、2次電子が出てくるのと同時に、電子ビームが試料表面にぶつかって反射した電子(反射電子)が発生している。この2種類の電子は、エネルギーが異なるため、別々に検出することが出来る。反射電子は、低真空でも検出することが可能であり、この原理に着目し、試料室をより大気圧に近い低真空(~270Pa)に設定(低真空モード)することにより、含水試料の形を変えずに観察できるように製品化したものが「S-3500N」。今回の改良では、低真空モードで4.5nmの業界最高の分解能を実現。
(注1)シンチレータ: モニタに映し出されるSEM像は、細い電子ビームを試料に当てて、試料から出てくる電子を検出し、その電流を増幅することにより得られます。 シンチレータとは、電子の量を効率的に増
幅する部分です。
(注2)FE(Field Emission:電界放出)-SEM:電子線を発生する電子源に電解放出型という方式を採用しているSEM。この方式によって電子線を細く絞り、高分解な像観察が可能になります。
(注3)パスカル(Pa):圧力の単位。1パスカルは、1平行メートルに1ニュートンの力が作用する時の圧力。なお大気圧は、約10万パスカル。
【学内限定】マイクロ天びん(株式会社エー・アンド・デイ:BM-500)【2020年度追加登録】辻(工B102)
基本仕様
モデル | BM-5 |
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ひょう量 | 5.2g |
最小表示 | 1μg |
繰り返し性(標準偏差) | 0.0012 mg(1 g時) |
最小計量値(参考値) |
2.0 mg |
直線性 | ±0.010 mg |
安定所要時間 FAST(設定時の代表値) |
約10秒 |
計量皿寸法(材質) |
計量皿寸法:Ø25mm(SUS316)、 |
オプション
・全モデル無風イオナイザー標準装備
粉などが風で舞わないよう、除電中に風が出ない直流式を採用
・導電性ガラス風防
帯電防止用として、風防に金属膜を生成した導電ガラスを採用
・クロススライドドア
左手で右側のドアの開閉が可能。両手が使えて作業効率アップ
・操作性の良いひょう量室
二重風防なしで高い精度、広いひょう量室を実現、仕切板を外せばビーカーやシリンダーでの計量も可能
・校正用分銅内蔵
オプションの詳細
マイクロ天びんDM-5について、5.2gまでの測定が可能です。試料導入時に手や指で重さを加えてしまうと、5.2g以上となってしまう場合があるので、壊れる原因にもなる可能性があるため、必ずピンセットを用いて作業を行うようにしてください。安定しましたら、〇マークが表示されますので、この時の値をとってください。測った状態で長く置いてしまうと、最大で1㎎程度ズレが生じることもございます。
コンセントは、常に差した状態にして通電状態としておくことで、正しい表示となります。コンセントを入れておくと、On・Offどちらで放置しておいてもかまいません。コンセントを抜く必要があったり停電時には、再度コンセントをいれてから半日はおいて通電していただかなければ、良い精度での測定ができないので注意してください。なお、左▲印は通電しているサインとなります。
気温・湿度・気圧を調整するため使用時には必ず校正(CAL)ボタンを押してください。サンプル毎に校正(CAL)を押していただく必要はございませんが、1~2時間程度、間隔が空くようでしたら、内臓(約5g)の装置があるので校正してください。
天びんの温度と、測定サンプルの温度を一定にしておくようにしてください。例えば、80度のサンプルをそのまま置いてしまうと、気流が出来てしまい、安定した結果を得ることができないことがあります。また、冬季には静電気の影響もでてきます。その場合には、秤の上の部分を使うことで、電極が4つありますので、サンプルを置いて、イオンボタンを押すことで、落ち着きます。この機能は、値がブレるとき、落ち着かないときに使うようにしてください。帯電していると+-引き合う力で影響がでてしまうためです。
ノートパソコンなどをお持ちいただき、ワード・エクセル・メモ帳などには、測定した数値をプリント(入力)する機能もございます。汚れた場合には、乾いた布やアルコールで拭きとってください。エタノール95%のものですと、塗料が剥げてしまう恐れがありますので、中性洗剤やもう少し濃度の低いエタノールを使うようにしてください。
【学内限定】イオンクロマトグラフ(島津製作所:Prominence HIC-SP )【2020年7月追加登録】白藤(工B412)
基本仕様
カラムは陰イオン用のカラム(SHIM-PACK IC-SA2)です.
オートサンプラータイプではありませんのでご留意ください.
オプション
■脱気ユニット DGU-20A3R
内部容量400μL の高性能オンライン脱気システムの採用により、超音波・減圧等による溶離液のオフライン脱気は不要です。専用リザーバトレイにより配管もすっきりします。
■送液ポンプ LC-20ADSP
100nL/min~10mL/minまでの送液を可能にしたパルスレス送液ポンプにより、サプレッサ不要の電気伝導度検出を可能としました。
■電気伝導度検出器 CDD-10ASP
オプションのデュアルキットNSの増設により、2ch同時検出が可能です。陰イオンサプレッサ/陽イオンノンサプレッサ方式のデュアル流路分析システム等に対応します。VP機能を用いることで、導電率計としての合否判定のほか、導電率のゼロ補正とスパン調整を含む自動較正が可能です。
■吸光度検出器 SPD-20A
取り外し可能な検出器セルASSYには、室温変化の影響を受けにくい温調機能を標準装備しています。
■カラムオーブンCTO-20ACSP
HPLCのカラム温調として定評のある、強制空気循環型のカラムオーブンです。しかも、電子冷却機能により、室温-15℃からのカラム温度制御が可能です。オーブン内はカラムのほか、サプレッサとノンサプレッサ用の電気伝導度検出器セルASSYも同時に取り付けられる大容量タイプです。
【学内限定】ゼータサイザー(スペクトリス株式会社マルバーン・パナリティカル事業部:Nano ZS )【2020年12月追加登録】長﨑(工F304)
基本仕様
『ナノテクノロジーの研究・開発・品質管理に重要な粒子径、ゼータ電位、分子量の計測』
※ 実際の使用は材料と溶媒の性質によって異なります。
粒径測定 | 測定レンジ | 0.6nm – 6000nm ※ |
---|---|---|
感度 | 0.1mg/mL ( Lysozyme 14kDa) | |
濃度範囲 | 0.1ppm – 40w/v% (0.1mg/mL Lysozyme) ※ | |
必要サンプル量 | 12μL以上(専用キュベット使用時) | |
測定原理 | 動的光散乱法(光子相関法)、NIBS | |
相関仕様 | 最小サンプリング時間25ns、4000チャンネル | |
ゼータ電位測定 | 測定レンジ | 3nm – 10μm |
必要サンプル量 | 0.75mL以上 | |
測定原理 | レーザ・ドップラー電気泳動法(M3-PALS) | |
分子量測定 | 測定レンジ | 1×103 – 2×107 Da |
必要サンプル量 | 12μL以上(自動滴定時は3mL以上) | |
測定原理 | 静的光散乱法(Debyeプロット使用) |
オプション
Zetasizer Nano
■ゼータ電位測定
・モビリティーがほとんどないサンプルの高感度測定
■粒子径測定
・コロイド、ミセル、タンパク質などを高感度に測定
・スラリー、顔料などの高濃度測定が可能
■分子量測定
・Debyeプロットによるタンパク質やポリマーの分子量測定
透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社:JEM-2100【2022年4月追加登録】)米谷(工F209)
オプション
操作性と拡張性を備えた電子顕微鏡
LaB6電子銃を搭載しています。0.19 nmの高い分解能 (ポールピース URP 使用 ) を実現しました。
STEM(走査像観察装置)やEDS(エネルギー分散形 X 線分析装置)は本体コントロール用 PC にインテグレーション化されています。
EDS は立体角0.28 sr (ポールピース HRP、50 mm2検出器使用)を実現し、高感度、高分解能分析が可能です。
新設計のゴニオメータステージを採用し、長時間の安定した観察、分析が可能です。
オプションの詳細
次のうち、当機器は「高分解能構成(HR)」になります | |||||
バージョン | 超高分解能構成※1 | 高分解能構成※1 | 試料高傾斜構成※1 | クライオ構成※1 | ハイコントラスト構成※1 |
(UHR) | (HR) | (HT) | (CR) | (HC) | |
分解能 | |||||
粒子像 | 0.194 nm | 0.23 nm | 0.25 nm | 0.27 nm | 0.31 nm |
格子像 | 0.14 nm | 0.14 nm | 0.14 nm | 0.14 nm | 0.14 nm |
加速電圧 | 80,100,120,160,200 kV | ||||
最小可変加速電圧 | 50 V | ||||
電源安定度 | |||||
加速電圧 | 2×10-6/min | ||||
対物レンズ安定度 | 1×10-6/min | ||||
対物レンズ | |||||
焦点距離 | 1.9 mm | 2.3 mm | 2.7 mm | 2.8 mm | 3.9 mm |
球面収差係数 | 0.5 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | 2.0 mm | 3.3 mm |
色収差係数 | 1.1 mm | 1.4 mm | 1.8 mm | 2.1 mm | 3.0 mm |
最小焦点可変量 | 1.0 nm | 1.5 nm | 1.8 nm | 2.0 nm | 5.2 nm |
スポットサイズ | |||||
TEMモード | 20~200 nmφ | 1~5 μmφ | |||
EDSモード | 0.5~25 nmφ | 1.0~25 nmφ | 1.5~35 nmφ | 2.0~45 nmφ | 10~500 nmφ |
NBDモード | |||||
CBDモード | (αセクレタ組込み) | (αセクレタ組込み) | (αセクレタ組込み) | (αセクレタ組込み) | |
収束電子回折 | |||||
収束角(2α) | 1.5~20 mrad以上 | – | – | ||
取込角 | ±10° | – | – | ||
倍率 | |||||
MAG | ×2,000~ 1,500,000 | ×1,500~1,200,000 | ×1,200~ 1,000,000 | ×1,000~ 800,000 | |
LOW MAG | ×50~6,000 | ×50~2,000 | |||
SA MAG | ×8,000~800,000 | ×6,000~600,000 | ×5,000~600,000 | ×5,000~400,000 | |
カメラ長 | |||||
制限視野回折 | 80~2,000 mm | 100~2,500 mm | 150~3,000 mm | ||
高分散回折 | 4~80 mm | ||||
高分解能回折※2 | 333 mm | ||||
試料室 | |||||
傾斜角 X/Y※3 | ±25/±25° | ±35/±30° | ±42/±30° | ±15/±10° | ±38/±30° |
傾斜角 X※4 | ±25° | ±80° | ±80° | ±80° | ±80° |
試料移動量 | 2 mm (X,Y) 0.2 mm (Z±0.1 mm) | 2 mm (X,Y) 0.4 mm (Z±0.2 mm) | |||
EDS(Si(Li)型検出器)※5 | |||||
立体角 | 0.13sr/0.24sr | 0.13sr/0.28sr | 0.13sr/0.23sr | ※6 | 0.09sr/- |
(30mm2/50mm2) | |||||
取出角 | 25˚/22.3˚ | 25˚/24.1˚ | 25˚/25˚ | ※6 | 20˚/- |
(30mm2/50mm2) |