装置一覧instrument list

共焦点微小部蛍光X線分析装置(真空仕様)

基本仕様

測定可能元素 Mg~(ただし試料による)
空間分析能 ~14µm(Au Lα)
試料形状 縦・横:15mm以内
厚さ:5mm以内
特徴 真空下での測定

オプション

  • 試料表面近傍の任意の深さにおける元素分析
  • 深さを選択した2次元元素分布像の取得が可能
  • 深さ方向の情報を有する元素分布像の取得が可能
オプションの詳細

共焦点微小部蛍光X線分析法では、試料の表面近傍において任意の深さで測定を行うことができます。
また、試料を走査させることで3次元的な元素分布像を非破壊的に取得することができます。
本装置では測定雰囲気を真空にすることによって、Mgなどの軽元素の測定も可能です。

【測定例】
毛髪の断面図の元素分布像取得、めっき鋼板など層構造を有する試料に対する深さ方向の元素分布像取得

共焦点微小部蛍光X線分析装置(大気仕様)

基本仕様

測定可能元素 Cl~(ただし試料による)
空間分析能 ~14µm(Au Lα)
試料形状 縦・横:15mm以内
厚さ:5mm以内
検出限界 約10ppm(ガラス標準物質SRM621にて評価)
特徴 水溶液セルを利用して液中でのその場モニタリング可能

オプション

  • 試料表面近傍の任意の深さにおける元素分析
  • 深さを選択した2次元元素分布像の取得が可能
  • 深さ方向の情報を有する元素分布像の取得が可能
  • 水溶液セルを用いた水溶液中でのin situ観察が可能
オプションの詳細

水溶液セルを用いることで、液中における元素分布変化のその場観察が可能です。

【測定例】
塩水中での鉄鋼腐食モニタリング

共焦点微小部蛍光X線分析装置(大型試料対応)

基本仕様

現在、準備中です。

全反射蛍光X線分析装置(ナノハンター)

予約カレンダーの閲覧にはログインが必要です。

基本仕様

測定可能元素 Al~Uまで(ただし試料による)
試料形状 10µL程度の水溶液
検出限界 約10ppb
特徴 微量液体のppb分析や、固体表面の極微量付着物分析

オプション

  • 【高感度非破壊分析】
    マルチビームシステムによりAl~Uを高感度に検出
    試料を置くだけで簡単に非破壊分析が可能
  • 【ppbレベルの検出限界】
    液体試料の場合、きわめて少ない液量でppbレベルの測定が可能
    測定準備も容易
オプションの詳細

全反射蛍光X線分析法とは、超高感度な蛍光X線分析を可能にする手法です。
X線を低角度で試料に照射すると、試料内部への侵入はほとんどなくなります。
この時、試料表面の元素は効率よく励起されますが、ノイズとなる散乱線は極めて小さくなります。
励起X線照射核は0~2°の間で変えることができます。
これにより、微量元素の超高感度分析が可能になります。

【測定例1:蒸着膜中不純物の検出】
全反射法では、照射X線は試料表面から数nm程度の深さまでしか侵入しません。
この現象を利用して、極表面のみの高感度分析を行うことが可能です。

【測定例2:固体表面上の付着形態分析】
蛍光X線強度の照射角度依存性を測定することで、試料表面上の元素付着形態を判別することができます。

【測定例3:膜状試料の深さ方向分析】
照射X線の角度を変えることにより、構成元素の深さの濃度変化をみることができます。

X線光電子分析装置(島津製作所:XPS/ESCA-3400)

予約カレンダーの閲覧にはログインが必要です。

基本仕様

測定可能元素 Li~(ただし試料による)
試料形状 直径:10mm(Φ)以内
厚さ:5mm(t)以内
特徴 固体最表面数ナノメートルの領域の元素分析と状態分析

オプション

  • 金属、セラミックス、高分子材料など、さまざまな資料に対応
  • 測定操作は極めて簡単
  • 高度の自動分析機能とデータ処理
オプションの詳細

軟X線照射によって、固体表面から放出された光電子の結合エネルギーを測定する分析手法です。
光電子の脱出深さが数ナノメートルであることから、固体最表面に近い層からの情報が得られます。
また、酸化の状態や有機物の官能器の種類などに依存して、化学シフトと呼ばれるピークシフトが観測されます。
励起源として軟X線を用いているため、試料に対するダメージが小さいことや、絶縁物の分析も容易です。

【測定例1:材料の品質管理、製造管理のために】

  • 金属材料
    (酸化膜厚や不働態膜の膜厚管理、表面汚染の測定、表面濃化や偏析の管理、腐食の管理、鋼板などの表面処理の評価)
  • ガラス・セラミックス
    (表面組成の管理、光学材料のコーティングの管理、表面偏析、変質の管理)
  • 電子、半導体材料
    (半導体ウェハの有機汚染管理、薄膜や多層膜の膜厚管理、ハードディスクの潤滑膜厚の測定、磁気テープの潤滑膜厚の測定、表面処理の管理)
  • 高分子材料
    (高分子フィルムの表面改善の管理、高分子の接着性の評価、食品包装フィルムの汚染評価、繊維の撥水加工処理の評価、繊維のコーティングの管理)
  • 触媒
    (触媒の活性度評価)

【測定例2:材用、部品、製品の不良解析や研究のために】

  • 触媒の失活
    (Pbなどの金属の酸化度の測定、表面の有機物汚染の測定)
  • すべり性の低下
    (潤滑膜厚の測定、コーティングのはがれの評価、機械部品の潤滑層の酸化の評価)
  • 材料表面の変色
    (汚染不純物元素の測定、汚染物質の状態分析、表面酸化や汚染などの原因究明、腐食の進行度と状態の評価)
  • 高分子フィルムの接着性の低下
    (官能基の測定、表面酸素濃度の測定)

X線分析顕微鏡(堀場製作所:XGT-2700)

予約カレンダーの閲覧にはログインが必要です。

基本仕様

測定可能元素 Na~U(ただし試料による)
空間分析能 最小φ10µm
試料形状 高さ:30mm以内
特徴 蛍光X線による元素分析能力、透過X線像、顕微鏡の観察能力の3つの機能をもつX線分析顕微鏡

オプション

  • 前処理不要
  • 大気中非破壊測定
オプションの詳細

生体組織や鉱物の分析、半導体や電子部品関連の各種解析、品質管理など、幅広い分野での活用が可能です。
特別な前処理なしに、試料の構成元素と内部構造の解析を同時に行うことができます。
10µm の空間分解能をもつ高輝度マイクロビームを実現した独自のX線導管(XGT)を採用し、微小な試料でもマッピングが得られるなど、高精度な測定を可能にしています。
主な特長は、元素マッピング像と透過X線像が同時に得られることや試料を選ばないことです。
しかも大気中で非破壊測定が可能なので、貴重な試料や水分を含む試料などにも対応できます。

  1. 元素マッピング像と、透過X線像が同時に得られます。
  2. 試料の前処理なしに、大気中で非破壊・非汚染の測定が可能。
  3. 試料を選ばず、生体などでも分析可能。
  4. Na(ナトリウム)からU(ウラン)まで31元素を同時マッピング。
  5. 100mm×100mm のサンプルをそのまま分析可能。
  6. φ 10µm / φ 100µm の点分析、微小領域から広領域までの面分析に対応。

【測定例1:研究開発】
材料開発、バイオ試料解析
(植物、小動物などの生体組織、鉱物)

【測定例2:品質管理 】
異物分析、不良解析
(半導体パッケージ、電子部品)

ページの先頭へ